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地 址:兴化市戴南镇科技园区富康路
硅溶胶精密铸造型壳制造工艺
硅溶胶精密铸造工艺的应用越来越广泛,其优越性是已经公认的事实,同时它也存在着需要改善和提高的地方,由于各个工厂所使用的原辅材料机器操作条件都不一样,所以工艺参数也是千变万化,怎样能保证铸件的成品率是一个永远的课题。
1、精铸用粘结剂硅溶胶的技术要求
熔模铸造用硅溶胶无国家标准,只有航空工业标准 HB5346-1986《熔模铸造用硅溶胶》技术要求,硅溶胶是一种优质硅溶胶熔模铸造用水基粘结剂,生产用于所有层(面层S830和背层S1430)。硅溶胶易配制成高粉液比的优质涂料,涂料稳定。
熔模铸造用硅溶胶技术要求
牌号化学成分/%物理性能其它
SiO2Na20密度/g·cm-3pH值运动粘度/mm2·s-1SiO2胶粒直径/mm外观稳定期
S83024~28≤0.31.15~1.199-9.5≤67~15乳白≥1年
S143029~31≤0.51.20~1.229-10≤89~20
2、硅溶胶涂料配比
正确地选择各种原材料配比,保证涂料有适当的比重和粘度,是涂料控制的关键,对于要求高粉液比的工厂加入粉液比调节剂T3可以自由控制。硅溶胶涂料中,除了硅溶胶和耐火粉以外,还有润湿剂WET-10S、消泡剂FA900和涂料卫士GERM37,涂料卫士的作用是防止涂料变质老化,涂料失去涂挂性能。
硅溶胶涂料液的配方
种类单位面层(1)2~3层4~5层最外层
硅溶胶kg10101010
锆英粉kg38
0.3
莫来砂粉
kg
30201.2
润湿剂g20
消泡剂g20
粘度4#杯s30~353010~1515~20
配比原则
控制涂料粘度以达到稳定制壳质量的目的,配制时按当时的实际情况,当零件壁薄、复杂或带有深陷时,涂料粘度取下限,反之取上限。
配制工艺
按涂料的配方取一定量的耐火材料、润湿剂、消泡剂,先加入硅溶胶然后加入润湿剂和消泡剂等,开始搅拌,在不断搅拌过程中加入耐火材料,待全部加入完后,继续搅拌6h~12h,稳定后测其粘度,过高加硅溶胶稀释,过小则加入一定量的耐火粉料补充,直至粘度合格为止,涂料卫士在涂料使用后加入,如果当天使用完毕不需要加入,而粉液比调节剂可以随时按需要加入。
3、硅溶胶涂料液的制壳工艺
制壳场地工艺参数
涂料间温度:22℃~25℃;相对湿度45%~65%;通风条件:良好。
涂料工艺过程
将清洗好的蜡模(要求干燥后)慢慢浸入L型涂料搅拌桶中,并转动上下移动,让涂料充分并均匀湿润模组后,取出慢慢转动至无涂料堆积、滴落现象时再挂砂,使砂粒均匀附于涂料之上,每层涂料的粘度、撒砂粒度要求。面层涂料时要用专用筛网过滤涂料中的砂粒等杂质,以防止模壳中产生砂粒等脱落而造成铸件夹灰夹砂。
硅溶胶涂料的性能要求
型壳层数/面涂料粘度/s密度/g·cm-3撒砂粒度/目
130-351.81-2.0380/100(锆英砂)
2301.84-1.8530/60(莫来砂)
3301.83-1.8430/60(莫来砂)
415-201.81-1.8216/30(莫来砂)
515-201.80-1.8116/30(莫来砂)
6(最外层)15-201.79-1.80
4、硅溶胶每层型壳的干燥过程
硅溶胶在干燥过程中必须严格控制温度,相对湿度及空气流速。
硅溶胶型壳工艺参数
时间/h层数/层干燥温度/℃相对湿度/%风速/m·s-1
≥41~220~2550~60不宜吹风
≥63~5≥3030~50≥3
≥86≥3030~50≥3
当环境温度和相对湿度不易调整时,可控制为一定相对稳定额数值:温度为22℃~25℃;湿度45%~65%。
模壳脱蜡工艺
如果是低温蜡比如石蜡硬脂酸模料采用水浴脱蜡,水温90℃~95℃,脱蜡时间≥20分钟,以防止水沸腾造成砂粒或涂料进入模壳中,如果是中温蜡一般采用蒸汽脱蜡。
模壳的自检
模壳的自检由操作工自己完成,当有分层、走泡、开裂、烂头者为不合格。
模壳槽清理
每次脱模结束后将蜡水放出浇成蜡锭,浇蜡锭时要用要用160目~200目的筛网过滤去除蜡液中渣滓,并将槽中的水全部放掉并将脱蜡槽打扫干净,下次脱蜡时重新加入清洁的水。
5、焙烧工艺
单壳焙烧
模口朝下,放置于炉膛内,焙烧温度900℃~1050℃,到温后保温1h~2h后开始取出浇注;当需要装箱时待小于450℃出炉、装箱。
装箱焙烧
认真仔细检查模壳质量,凡有型腔开裂、剥落、起皮等现象不予装箱。清除浇口翻边及浮砂,模壳口朝下,四周均匀拍摆模壳,清除夹灰、夹砂及型腔表面的浮尘。用压缩空气吹净型腔内夹灰及其表面浮尘100%进行清水清洗模壳型腔,去除内部渣滓。再次轻轻拍摇模壳后装箱,填砂后用石棉板盖住浇口并用两半缺口的石棉板盖住砂箱上口(石棉板大小保证盖满整个砂箱上口并伸出挡砂箱爆皮的边沿),以防止焙烧至浇注过程中砂箱爆皮落入模壳中而造成铸件夹灰。如有浇口损坏,杯口有砂粒外露者,则停止使用。更多的硅溶胶精密铸造资讯请关注我们。